在近日舉辦的2024年投資者日會(huì)議上，ASML公司向外界展示了其長(zhǎng)期戰(zhàn)略規(guī)劃，并對(duì)全球市場(chǎng)和技術(shù)趨勢(shì)進(jìn)行了深入分析。公司高層確認(rèn)，ASML有志在2030年實(shí)現(xiàn)約440億至600億歐元（折合人民幣約為3355億元至4575億元）的年收入目標(biāo)，同時(shí)預(yù)期毛利率將維持在56%至60%的范圍內(nèi)。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）對(duì)未來的技術(shù)前景表示樂觀。他預(yù)計(jì)，在未來十年內(nèi)，ASML將有能力推動(dòng)EUV極紫外光刻技術(shù)達(dá)到新的高度，并充分把握人工智能帶來的機(jī)遇，從而實(shí)現(xiàn)顯著的營(yíng)收與盈利雙增長(zhǎng)。

公司方面認(rèn)為，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，EUV光刻機(jī)在銷售市場(chǎng)上將擁有巨大的上升潛力。特別是在2030年之前，這一趨勢(shì)將更加明顯。

EUV技術(shù)的可擴(kuò)展性不僅為客戶提供了持續(xù)的成本優(yōu)勢(shì)，還有望推動(dòng)行業(yè)從傳統(tǒng)的多重曝光工藝轉(zhuǎn)向使用EUV的單次曝光工藝。這一轉(zhuǎn)變將涵蓋低數(shù)值孔徑（0.33NA）和高數(shù)值孔徑（0.55NA）的應(yīng)用，進(jìn)一步支持先進(jìn)邏輯芯片和DRAM芯片的發(fā)展。

基于對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)和技術(shù)趨勢(shì)的綜合分析，ASML預(yù)測(cè)EUV光刻機(jī)的需求將以兩位數(shù)的年復(fù)合增長(zhǎng)率持續(xù)增長(zhǎng)，即增長(zhǎng)率將超過10%。