近日，被譽(yù)為“浸潤(rùn)光刻之父”的林本堅(jiān)，在中國(guó)臺(tái)灣清華大學(xué)半導(dǎo)體研究學(xué)院擔(dān)任院長(zhǎng)，并曾任臺(tái)積電研發(fā)副總經(jīng)理，他在一次訪談中表達(dá)了對(duì)中國(guó)大陸半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的獨(dú)到見解。他認(rèn)為，中國(guó)大陸在半導(dǎo)體領(lǐng)域具備重新定義行業(yè)的潛力，并可能創(chuàng)造出如同DeepSeek般具有突破性意義的成果。

林本堅(jiān)提到，中國(guó)大陸無需局限于7nm和5nm等尖端制程技術(shù)的追趕，而應(yīng)通過探索新材料和新型架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)制程功能的跨越式提升。他指出，即便采用7nm制程，通過創(chuàng)新和優(yōu)化，也能達(dá)到甚至超越5nm制程的性能水平。這種思路與DeepSeek的發(fā)展路徑不謀而合，即通過非傳統(tǒng)方式，實(shí)現(xiàn)更高效、更快速的進(jìn)步。

他進(jìn)一步闡述道：“外界對(duì)中國(guó)大陸的半導(dǎo)體投資和研發(fā)施加的壓力，可能會(huì)激發(fā)出其潛在的創(chuàng)新能力。就像DeepSeek一樣，不遵循傳統(tǒng)路徑，卻取得了令人矚目的成就。或許，通過新材料和新型架構(gòu)的應(yīng)用，中國(guó)大陸能夠?qū)崿F(xiàn)原本需要更先進(jìn)制程才能達(dá)到的目標(biāo)。”

林本堅(jiān)還強(qiáng)調(diào)，如果中國(guó)大陸在半導(dǎo)體領(lǐng)域的努力和投入持續(xù)加強(qiáng)，未來完全有可能誕生出半導(dǎo)體行業(yè)的“DeepSeek”。這種突破性的創(chuàng)新，可能會(huì)使臺(tái)積電在2nm、3nm等先進(jìn)制程上的努力變得黯然失色。他擔(dān)憂地表示：“這將給臺(tái)積電帶來巨大挑戰(zhàn)，因?yàn)橹袊?guó)大陸不僅擁有龐大的市場(chǎng)，而且能夠以更低的價(jià)格提供高性能的半導(dǎo)體產(chǎn)品。”

林本堅(jiān)的言論不僅揭示了他對(duì)中國(guó)大陸半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的關(guān)注，也表達(dá)了對(duì)未來半導(dǎo)體行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局變化的深刻洞察。他提醒業(yè)界，面對(duì)中國(guó)大陸的創(chuàng)新潛力，必須保持警惕，并持續(xù)加大自身的研發(fā)投入，以應(yīng)對(duì)可能出現(xiàn)的挑戰(zhàn)。