【沃資訊】12月22日消息，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML公司最近通過其官方推特賬號(hào)宣布，已成功向美國半導(dǎo)體巨頭英特爾交付首臺(tái)高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備。

根據(jù)之前的報(bào)道，ASML公司的高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備專門用于生產(chǎn)2納米工藝的半導(dǎo)體芯片，其光學(xué)性能的數(shù)值孔徑(NA)已從0.33提升至0.55。這一技術(shù)的突破具有重要意義，將有望推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展。

據(jù)沃資訊了解，ASML公司明年的產(chǎn)能計(jì)劃僅為10臺(tái)，然而英特爾已經(jīng)預(yù)定了其中的6臺(tái)。不過，ASML公司計(jì)劃在未來幾年內(nèi)將該設(shè)備的產(chǎn)能提高至每年20臺(tái)，以滿足不斷增長的市場(chǎng)需求。

這臺(tái)由ASML公司交付的新型高數(shù)值孔徑EUV(極紫外光刻)系統(tǒng)配備了0.55數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率達(dá)到8納米，展現(xiàn)出令人矚目的性能。

ASML公司官方并未透露具體交付的光刻設(shè)備型號(hào)，但非官方消息源稱，這次交付的可能是Twinscan EXE：5000原型，交付地點(diǎn)位于英特爾在俄勒岡州的研究中心。

報(bào)道指出，這次交付共采用了250個(gè)大型包裝箱，占用了13個(gè)集裝箱的空間，考慮到后續(xù)的安裝和調(diào)試，實(shí)際投入使用還需要數(shù)月的時(shí)間。

此外，有報(bào)道稱，英特爾在量產(chǎn)過程中將采用更先進(jìn)的ASML Twinscan EXE：5200光刻設(shè)備，預(yù)計(jì)每臺(tái)設(shè)備的成本將高達(dá)2.5億歐元，這也表明了英特爾在推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的投資和發(fā)展。