【沃資訊】12月22日消息，荷蘭半導體設備制造商ASML公司最近通過其官方推特賬號宣布，已成功向美國半導體巨頭英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備。
根據之前的報道，ASML公司的高數值孔徑光刻設備專門用于生產2納米工藝的半導體芯片，其光學性能的數值孔徑(NA)已從0.33提升至0.55。這一技術的突破具有重要意義，將有望推動半導體行業的進一步發展。
據沃資訊了解，ASML公司明年的產能計劃僅為10臺，然而英特爾已經預定了其中的6臺。不過，ASML公司計劃在未來幾年內將該設備的產能提高至每年20臺，以滿足不斷增長的市場需求。
這臺由ASML公司交付的新型高數值孔徑EUV(極紫外光刻)系統配備了0.55數值孔徑的鏡頭，分辨率達到8納米，展現出令人矚目的性能。
ASML公司官方并未透露具體交付的光刻設備型號，但非官方消息源稱，這次交付的可能是Twinscan EXE：5000原型，交付地點位于英特爾在俄勒岡州的研究中心。
報道指出，這次交付共采用了250個大型包裝箱，占用了13個集裝箱的空間，考慮到后續的安裝和調試，實際投入使用還需要數月的時間。
此外，有報道稱，英特爾在量產過程中將采用更先進的ASML Twinscan EXE：5200光刻設備，預計每臺設備的成本將高達2.5億歐元，這也表明了英特爾在推動半導體技術領域的投資和發展。
